SMIC тестирует первое китайское иммерсионное литографическое оборудование класса DUV (Deep Ultraviolet)

Тестовая платформа SMIC от Yuliangsheng включает в себя DUV-машину, использующую иммерсионную литографию и, как сообщается, рассчитанную на технологии изготовления 28-нм класса, хотя ее можно использовать для 7-нм или даже 5-нм производственных узлов с применением мультипаттернирования. Оборудование Yuliangsheng в основном изготавливается из отчественных компонентов, хотя некоторые детали по-прежнему импортируются. Компания активно работает над локализацией всей цепочки поставок. Это позволит Китаю работать вне влияния экспортной политики США или Европы в этом сегменте производства микросхем.

Если описание оборудования от Financial Times соответствует действительности, то иммерсионная система DUV от Yuliangsheng, которую в настоящее время тестирует SMIC, напоминает Twinscan NXT:1950i от ASML 2008 года, которая была разработана для техпроцесса 32 нм за одну экспозицию. Устройство оснащено оптикой с числовой апертурой 1,35, наложением 2,5 нм, разрешением 38 нм и может использоваться для изготовления чипов на техпроцессе 22 нм. Хотя теоретически NXT:1950i можно использовать для производства чипов по 7-нм и 5-нм техпроцессам, компания ASML разработала для таких технологий производства NXT:2000i, который на несколько поколений опережает NXT:1950i.

Сообщение SMIC тестирует первое китайское иммерсионное литографическое оборудование класса DUV (Deep Ultraviolet) появились сначала на Время электроники.