Создано первое в мире оборудование для электронно-лучевой литографии, которое позволяет наносить схемы чипов непосредственно на кремниевую пластину без использования масок

Два американских стартапа, Multibeam и SecureFoundry, создают первые в мире оборудование для электронно-лучевой литографии, которое позволяет наносить схемы микросхем непосредственно на кремниевую пластину без использования масок.

Однако ASML не стоит беспокоиться о том, что она может потерять лидирующие позиции в литографическом бизнесе. Производители  утверждают, что их оборудование будет дополнять, а не заменять оборудование для EUV- и DUV-литографии, которое в настоящее время производит только ASML.

Новое оборудование, созданное двумя американскими стартапами, Multibeam и SecureFoundry,  позволяет настраивать каждый напечатанный чип. При использовании маски все напечатанные чипы одинаковы. Производители электронно-лучевых инструментов утверждают, что их решение без использования масок идеально подходит для быстрого прототипирования и мелкосерийного производства чипов. Каждый луч оборудования имеет независимый канал передачи данных, что делает его «умным лучом». Каждый луч работает как сканирующий электронный микроскоп, показывая, где происходит запись.

Оборудование позволяет взять проект и начать наносить рисунок на пластины в тот же день. Как правило, разработчику микросхем приходится ждать изготовления маски до шести месяцев, а её стоимость может достигать полумиллиарда долларов. Хотя отсутствие масок в разработке является преимуществом с точки зрения затрат, его производительность сильно отстаёт от рабочих инструментов для DUV и EUV с масками.

«Мы ориентируемся на диапазон от 22 до 90 нм, — сказал Лекс Кин, основатель и генеральный директор компании SecureFoundry. — После 90 нм маски обходятся дешевле».

 

 

Сообщение Создано первое в мире оборудование для электронно-лучевой литографии, которое позволяет наносить схемы чипов непосредственно на кремниевую пластину без использования масок появились сначала на Время электроники.