Технология сухого фоторезиста пошла в производство

Сухой фоторезист, представленный компанией Lam, является прорывом в области разрешения, производительности и выхода годных изделий при экстремально-ультрафиолетовой (EUV) литографии — ключевой технологии, используемой при производстве полупроводниковых устройств нового поколения.

«Подход Lam к сухому резисту позволяет преодолеть самые сложные задачи, связанные с переносом тонких структур DRAM на пластину, обеспечивая низкую дефектность и высокую точность, а также предлагая ключевые преимущества в плане стоимости и экологичности, — сказал Вахид Вахеди, директор по технологиям и экологичности в Lam Research. — Мы гордимся тем, что сотрудничаем с лидерами отрасли, чтобы ускорить внедрение этой инновации в производство DRAM в больших объёмах».

Производитель микросхем памяти будет использовать инструменты Aether® в своих самых передовых узлах DRAM для формирования сухих резистивных подслоев и плёнок, а также для использования процессов сухой проявки. Эти процессы позволяют преодолеть традиционный компромисс между дозой облучения и производственными дефектами, обеспечивая точное формирование рисунка с низким уровнем дефектов. Это усовершенствование снижает затраты и повышает производительность сканеров при изготовлении полупроводниковых устройств нового поколения.

Приложения, требующие больших энергозатрат и вычислительных мощностей, нуждаются в постоянном увеличении объёма памяти при уменьшении занимаемой площади, чтобы снизить стоимость обработки одного бита данных. Ключевым фактором, способствующим такому масштабированию, является повсеместное внедрение в отрасли литографии с экстремально высоким разрешением. Технологии сухого фоторезиста оптимизируют процесс создания узоров от нанесения фоторезиста и осаждения стопки до финального травления и очистки, предлагая несколько преимуществ по сравнению с традиционным химически усиленным фоторезистом.

Сухой фоторезист значительно повышает чувствительность к электронно-лучевому излучению и разрешение при каждом проходе по пластине, позволяя лучше закреплять самые сложные узоры на пластине и повышая производительность и выход годных изделий. Кроме того, он обеспечивает ключевые преимущества с точки зрения экологичности, потребляя меньше энергии и в пять-десять раз меньше химических веществ, чем при традиционных процессах с использованием химических резистов.

Сообщение Технология сухого фоторезиста пошла в производство появились сначала на Время электроники.