TSMC выбирает «фотомасковые пелликулы» вместо сверхдорогого High-NA EUV для техпроцессов 1.4 нм и 1 нм

Тайваньская компания TSMC, признанный мировой лидер в сфере производства полупроводников, объявила о нестандартном стратегическом решении. Вместо немедленного перехода на крайне дорогостоящие установки High-NA EUV для освоения передовых техпроцессов 1.4 нм и 1 нм, компания делает ставку на усовершенствование уже существующей технологии.

Читать дальше →