В России создается целая линия фотолитографии для производства чипов

В стране к концу 2030 г. должна появиться линияфотолитографии, состоящая из комлекса оборудования для производствамикроэлектроники. Линия позволит увеличить скорость обработки пластин иуменьшит количество брака.