Микродисплейная фотолитография: и светит, и греет

Фотолитографировать нанометровые функциональные элементы современных микросхем традиционным для полупроводниковой индустрии способом, с засветкой заготовки через фотомаску и многосоставную оптическую систему, сложно и дорого. А что, если сделать шаг назад — и от проекционного литографирования перейти к (почти) контактному, да ещё и с динамически изменяемой маской?