SMEE стала на шаг ближе к созданию суверенных китайских EUV-сканеров — они нужны для выпуска передовых чипов

Литография со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV) способна заметно удешевить производство 7-нм и более совершенных полупроводниковых компонентов, поэтому санкции США против Китая направлены на ограничение доступа последней из стран к таким технологиям. Как выясняется, китайские производители оборудования создают свои решения для работы с EUV. Источник изображения: ASML