Китайские ученые применили крио-ET для анализа фотолитографии и добились 99% снижения дефектов чипов

Китайские исследователи представили новую технологию, способную выявить и устранить источник производственных ошибок при изготовлении микрочипов. Согласно их исследованию, метод позволяет сократить количество дефектов на 99%, что является значительным прорывом для полупроводниковой отрасли.