ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV
0
![ASML создала первый образец полупроводника с применением литографии High-NA EUV](https://3dnews.ru/assets/external/illustrations/2024/04/17/1103453/dpptX8fNMiGo3jBGf.jpg)
Нидерландская компания ASML сообщила о создании первых образцов полупроводниковых изделий с помощью своего первого литографического сканера со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением и проекционной оптикой с высокой числовой апертурой со значением 0,55 (High-NA EUV). Событие является важной вехой не только для ASML, но и для технологии High-NA EUV в целом. Источник изображения: ASML