Новая статья: Сверхжёсткий ультрафиолет (EUV) в полупроводниковой литографии: сложно, долго, дорого — и необходимо

«Закон Мура» был в очередной раз спасён в 2017 г., когда голландская ASML довела до готовности к серийному производству полупроводниковый фотолитограф, главным рабочим инструментом которого стал пучок излучения с длиной волны 13,5 нм. Компания потратила на это 17 лет и 9 млрд долл. США. И оно того стоило!