TSMC приступит к созданию опытной 10-нанометровой линии в июне

Компания TSMC вот-вот начнёт создание пилотной линии по выпуску микросхем с применением 10-нанометровой технологии. Об этом сообщает DigiTimes, ссылаясь на информацию, полученную от китайских СМИ.

Известно, что опытное производство будет развёрнуто на предприятии Fab 12 в северной части Тайваня. Этот завод работает с 300-миллиметровыми пластинами.