В ASML предрекли Китаю отставание в микроэлектронике на 10-15 лет

Президент и генеральный директор ASML Кристоф Фуке в интервью голландскому изданию NRC обсудил геополитические проблемы в полупроводниковой отрасли и отставание Китая от Запада в производстве микросхем.

Что касается действующих в США ограничений на развитие полупроводниковой промышленности в Китае, в том числе запрета на экспорт оборудования для EUV-литографии, Фуке заявил, что запрет на экспорт этого оборудования в Китай приведёт к отставанию полупроводниковой промышленности страны на 10–15 лет. Он отметил, что, запрет действительно эффективен.

Однако Фуке заявил, что, хотя США считают, что ASML должна прекратить обслуживание и ремонт оборудования в Китае, ASML придерживается иной позиции. Он объяснил, что для предотвращения самостоятельной эксплуатации оборудования китайскими компаниями и возможной утечки конфиденциальной информации ASML хотела бы сохранить контроль, продолжая обслуживать своё оборудование в Китае.

Отвечая на вопрос о растущем доминировании TSMC и рисках, связанных с зависимостью от одной компании, Фуке считает, что наличие нескольких крупных игроков в отрасли может способствовать инновациям.

Сообщение В ASML предрекли Китаю отставание в микроэлектронике на 10-15 лет появились сначала на Время электроники.