В рамках 2-нм техпроцесса Samsung увеличит количество EUV-слоёв на 30 %

Производители полупроводниковых компонентов используют так называемую EUV-литографию лишь на определённых этапах технологического процесса, их количество от поколения к поколению возрастает. Так, если Samsung при производстве 3-нм чипов ограничивалась 20 слоями с EUV, то после перехода на 2-нм техпроцесс их количество вырастет на 30 %. Источник изображения: Samsung Electronics